Phin lọc 3M - 6009

Phin lọc 3M – 6009

Mã sản phẩm: PL3M-004

Mã sản phẩm:

Nhà sản xuất: 3M

Nước sản xuất: USA/China

Tiêu chuẩn chất lượng: NIOSH-N95

Chất liệu: Than hoạt tính + màng poly

Loại: 2 Phin

Môi trường: Phòng hơi Thủy Ngân và Khí Clo

Dùng cho: Các loại nặt nạ 3M: 6100, 6200, 7501, 7502, 6800

Liên hệ

Mô tả

Phin lọc 3M - 6009

Phin lọc 3M - 6009

Phin lọc 3M – 6009

Mã sản phẩm: PL3M-004

Mã sản phẩm:

Nhà sản xuất: 3M

Nước sản xuất: USA/China

Tiêu chuẩn chất lượng: NIOSH-N95

Chất liệu: Than hoạt tính + màng poly

Loại: 2 Phin

Môi trường: Phòng hơi Thủy Ngân và Khí Clo

Dùng cho: Các loại nặt nạ 3M: 6100, 6200, 7501, 7502, 6800

Liên hệ

Phin lọc 3M 6009 được cấu tạo bằng lõi than hoạt tính và màng poly đảm bảo loại trừ bụi siêu vi, các khí độc Hữu cơ và Vô cơ, Phòng độc hơi Thủy Ngân và khí Clo

Phin được sử dụng nhiều lần nhưng không quá 3 tháng (trong môi trường bình nhiễm bụi bình thường). Khi sử dụng nếu có nhiều bụi bám, nên dùng dụng cụ làm sạch (vòi xịt hơi) để làm sạch bề mặt, tuyệt đối không để dính nước.

–

sản phẩm cùng danh mục

Mã SP: MN3M-004

Mặt nạ 3M 6800

2.850.000 đ

2.200.000 đ

20%
Mã SP: MN3M-003

Mặt nạ 3M 7501/7502

495.000 đ

450.000 đ

10%
Mã SP: MN3M-001

Mặt nạ 3M 3100/3200

247.000 đ

225.000 đ

10%
Mã SP: MN3M-002

Mặt nạ 3M 6100/6200

390.000 đ

355.000 đ

10%
Mã SP: PL3M-001

Phin lọc 3M – 6001

165.000 đ

150.000 đ

10%
Mã SP: PL3M-002

Phin lọc 3M – 6003

313.000 đ

285.000 đ

10%
Mã SP: PL3M-003

Phin lọc 3M – 3301K-100

104.000 đ

95.000 đ

10%
Mã SP:

Phin lọc 3M – 2097

Liên hệ

1
Mã SP: PL3M-005

Phin lọc 3M – 6006

Liên hệ

1
Mã SP: PL3M-006

Phin lọc 3M – 6002

Liên hệ

1

Phin lọc 3M 6009 được cấu tạo bằng lõi than hoạt tính và màng poly đảm bảo loại trừ bụi siêu vi, các khí độc Hữu cơ và Vô cơ, Phòng độc hơi Thủy Ngân và khí Clo

Phin được sử dụng nhiều lần nhưng không quá 3 tháng (trong môi trường bình nhiễm bụi bình thường). Khi sử dụng nếu có nhiều bụi bám, nên dùng dụng cụ làm sạch (vòi xịt hơi) để làm sạch bề mặt, tuyệt đối không để dính nước.